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    X射线光刻胶的研究

    Study of X-Ray Photoresist

    • 摘要: 合成了甲基丙烯酸缩水甘油酯与甲基丙烯酸氯乙酯和甲基丙烯酸氯乙酯与甲基丙烯酸甲酯共聚物,并研究了该共聚物的分子量分布、结构和热稳定性能。研究了甲基丙烯酸缩水甘油酯与甲基丙烯酸氯乙酯正性X射线光刻胶。该光刻胶具有热稳定性和高分辨率性。最低线幅宽度为0.1μm。

       

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