高级检索

    朱普坤, 李佐邦. 主链含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺的研究[J]. 功能高分子学报, 1998, 11(1): 9-15.
    引用本文: 朱普坤, 李佐邦. 主链含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺的研究[J]. 功能高分子学报, 1998, 11(1): 9-15.
    Studies on Photosensitive Polymide with Organo-Silicone Moiety in Main Chain[J]. Journal of Functional Polymers, 1998, 11(1): 9-15.
    Citation: Studies on Photosensitive Polymide with Organo-Silicone Moiety in Main Chain[J]. Journal of Functional Polymers, 1998, 11(1): 9-15.

    主链含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺的研究

    Studies on Photosensitive Polymide with Organo-Silicone Moiety in Main Chain

    • 摘要: 提出了一类主链上含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺(PSPI)。其合成过程是首先制备聚酰胺酸预聚体,接着在二环己基碳二酰亚胺存在下,使之转变为聚硅氧酰亚胺,然后引入光敏基团。通过IR、DSC、元素分析、UV、介电分析方法对聚酰亚胺的结构、感光特性、热性能、电性能、粘附性、吸湿性能等进行了表征。对结构与性能之间的关系进行了初步探讨。

       

    /

    返回文章
    返回