主链含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺的研究
Studies on Photosensitive Polymide with Organo-Silicone Moiety in Main Chain
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摘要: 提出了一类主链上含有机硅结构单元的光敏聚酰亚胺(PSPI)。其合成过程是首先制备聚酰胺酸预聚体,接着在二环己基碳二酰亚胺存在下,使之转变为聚硅氧酰亚胺,然后引入光敏基团。通过IR、DSC、元素分析、UV、介电分析方法对聚酰亚胺的结构、感光特性、热性能、电性能、粘附性、吸湿性能等进行了表征。对结构与性能之间的关系进行了初步探讨。